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[资源] 虚拟仿真制作首选平台VEStudio2.2最新sp2

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发表于 2011-8-10 12:43:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
制作界面# ?: `$ a& K) Y( x8 u

6 G9 X/ j+ i( p效果
  m& ^& B: P( T1 `0 N
" Q8 ~3 D, Y+ t2 f真实反射, v: G$ e+ P6 j7 a7 L5 A

2 Y  O0 ^! `' Z, f# \3 B/ ^4 E
1 a! Q  L. B1 o  @0 x1 @   免费的专业虚拟仿真平台,它可以制作虚拟房产、旅游仿真、产品展示、城市规划等各类虚拟仿真交互系统。
1 p- K) v) a& `: \# e, i8 s& d. ?+ K
SP2更新说明——
- N* w1 X( P+ R5 C4 F  N  M: n' a增加:
; a. `$ c% \& T简易GUI节点、小地图、相机方位指示、摆放种植模块、材质测试模块、涂鸦场景模块【可以在演示场景的时候使用】、快照比对模块【可以实现类似不同方案比对的功能】、编辑功能脚本提供! i/ {- ]+ U+ G2 p; ^0 Z
修改列表:
& o; l0 L2 u( Q$ T1、视点转换在任何导航模式下生效;( D1 c; p1 t- C% n0 ~% p2 N" |; ?
2、混合材质支持两层纹理的偏移凹凸,支持远处使用模糊的全局抽稀纹理;
. r- l( q" `3 A( A) N3、天体解除了程序雾效;6 b) _8 s( a4 G1 J% v
4、解决了模型库相同纹理重复输出的BUG;
3 R- ?$ \# B, f5 I5、提高模型库加载效率;, d& \/ K4 C8 u- z
6、解决了克隆子节点位置不准确的BUG;
$ g! m% x! S7 B& ^/ u5 a; z7、场景管理支持折叠状态记忆以便更方便的编辑场景节点;
' C, H  N. `: b" x8、层操作、编辑功能脚本支持;
; H: c. `% X! A9、地板反射支持凹凸;
2 _7 n4 Y$ L7 K10、移除了编辑器点击右键也选中物体;8 N) Y3 w& U% ?
11、纹理选择时使用了系统自带对话框,选择纹理不在工程目录会自动完成纹理复制;, V5 @9 |: Q! G" H
- `: M: s3 D- h& G' M/ V
注:必须先安装2.2正式版然后再安装本更新。
, Q/ X3 ~' L# v( w( Z) W& f8 I1 e6 d, v5 V! |
VEStudio2.2正式版下载:, Y; f% z6 j( z3 e8 q
http://www.vestudio.cn/data/VEStudio2.2正式版.exe
; ~- d+ e' a0 r4 ?+ N' A$ ~6 }sp2下载:  z7 _/ H* M" X+ M) \" d7 h
http://www.vestudio.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=2&Id=1544
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