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发表于 2011-3-18 21:49:26 | 显示全部楼层 |阅读模式
扩散                    平面光刻工艺                       离子注入
( V' F) O- v/ H$ V* A5 H. W+ t- ?' I
2 p0 `& n3 a$ G, u  d图一.5台机器,6个步骤的微型FAB工艺流程示意图  s8 i, ^6 ~- Q  J; q& J5 @
) d) J7 V; R& m+ z2 L* X
微型FAB包括在3种不同的机器组,6个步骤的工艺流程和2种产品晶片和试验晶片。在每个机器组,步骤4,5,6处都是一个再进入入口。机器组包括扩散—C1(2个机器Ma和Mb),离子注入-C2(2个机器Mc和Md)和平面光刻技术-C3(一个机器Me)。
( |( r$ l3 C) K: J2 j/ a求大家用extendsim7仿真谢谢邮箱641395644@163.com
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