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[资源] 虚拟仿真制作首选平台VEStudio2.2最新sp2

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发表于 2011-8-10 12:43:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
制作界面. y0 n% M" V7 v/ k
( y- P# h5 f3 G$ \3 E
效果+ N; ]) [+ w) Q+ b- H6 W4 h4 _
% C1 P3 _& Z: l4 k
真实反射0 a: n- |. o% I5 F% Z7 D- |/ Y
+ `0 O: s) b  Y) \5 a6 Q6 ]
* H. C5 C/ @* P7 p& b! t  p
   免费的专业虚拟仿真平台,它可以制作虚拟房产、旅游仿真、产品展示、城市规划等各类虚拟仿真交互系统。" t' {2 N/ L' t. X" B

9 c8 t& W+ x- x7 ZSP2更新说明——( l$ ^' ]1 C! S/ i
增加:
4 c" r5 \2 v2 V简易GUI节点、小地图、相机方位指示、摆放种植模块、材质测试模块、涂鸦场景模块【可以在演示场景的时候使用】、快照比对模块【可以实现类似不同方案比对的功能】、编辑功能脚本提供
: s1 z# G( I) o+ O- V3 S. \' t9 `修改列表:% c4 p6 H1 X9 J
1、视点转换在任何导航模式下生效;
$ @% x/ q, C6 n4 v/ i/ d, V2、混合材质支持两层纹理的偏移凹凸,支持远处使用模糊的全局抽稀纹理;0 z7 t  G6 N! \: e9 H
3、天体解除了程序雾效;
7 ]- C# l# [4 [' z) H4、解决了模型库相同纹理重复输出的BUG;+ g$ }1 O: f+ z, p
5、提高模型库加载效率;/ v2 z4 \' {. L1 c% Z9 n5 B- M9 l
6、解决了克隆子节点位置不准确的BUG;
8 _' c4 s4 u* v7、场景管理支持折叠状态记忆以便更方便的编辑场景节点;
; L: N( C) p! h, I# n8、层操作、编辑功能脚本支持;! T9 ]8 Y6 y. S4 K
9、地板反射支持凹凸;
/ T! Z) C1 D$ a1 C1 f- g! Z# l/ V: v10、移除了编辑器点击右键也选中物体;
5 T% d2 e& n( ]% [( z5 T& @) Q11、纹理选择时使用了系统自带对话框,选择纹理不在工程目录会自动完成纹理复制;
) ]5 T% m/ O( G  u" e
% r  m8 D/ J8 w: ~9 r  f注:必须先安装2.2正式版然后再安装本更新。
0 {" ~! D9 i  z% B  C" X
. s4 Y' A' m8 s+ u& W6 mVEStudio2.2正式版下载:8 i) S. ^/ T  Z
http://www.vestudio.cn/data/VEStudio2.2正式版.exe 3 D2 P# _8 X* u
sp2下载:
$ m' ?% O: @$ ]) a7 R1 chttp://www.vestudio.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=2&Id=1544
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