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[资源] 虚拟仿真制作首选平台VEStudio2.2最新sp2

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发表于 2011-8-10 12:43:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
制作界面
$ n1 L7 k/ n# Q' a' @5 r# }3 S/ P
效果. W7 A; Z+ t' _7 k
5 j. N4 D0 f9 U% C) I8 ~
真实反射5 G7 R  F3 R; k& F6 L  g9 j
! C+ |9 \1 N2 l8 V* W

5 K3 E5 K5 L, R. p: _   免费的专业虚拟仿真平台,它可以制作虚拟房产、旅游仿真、产品展示、城市规划等各类虚拟仿真交互系统。: R' [( f) }4 }" i1 M0 A8 j

. Y& `9 R1 ~3 ^6 I  g3 CSP2更新说明——$ L' X7 c3 z. n9 U& N4 D9 Z2 I
增加:8 N; U1 m2 Z% W; G- k
简易GUI节点、小地图、相机方位指示、摆放种植模块、材质测试模块、涂鸦场景模块【可以在演示场景的时候使用】、快照比对模块【可以实现类似不同方案比对的功能】、编辑功能脚本提供# v7 r7 V8 ?0 Z2 M
修改列表:: c$ w1 W4 O7 W7 M
1、视点转换在任何导航模式下生效;. _5 l# _/ ?0 ?
2、混合材质支持两层纹理的偏移凹凸,支持远处使用模糊的全局抽稀纹理;
3 s: A) r+ f) v. H8 R3 r3、天体解除了程序雾效;
; I* q* U0 U+ t1 M4、解决了模型库相同纹理重复输出的BUG;
  G  X/ W+ L& D* }) E5、提高模型库加载效率;
" _8 x9 O, [" f% ?& w- J$ [: z3 w/ U& |. [6、解决了克隆子节点位置不准确的BUG;6 ?0 R' n+ A+ S; w
7、场景管理支持折叠状态记忆以便更方便的编辑场景节点;
$ r! [' w2 o1 b* i8、层操作、编辑功能脚本支持;8 A7 R- J" w# `, w1 O
9、地板反射支持凹凸;
# N* `; `7 P( [: Z/ f, M10、移除了编辑器点击右键也选中物体;
& }& k) l# I+ b$ }& Q' C11、纹理选择时使用了系统自带对话框,选择纹理不在工程目录会自动完成纹理复制;
( D! R% k& S; X5 L0 r$ n3 H+ c( J) `9 c3 g; x
注:必须先安装2.2正式版然后再安装本更新。2 _5 k/ |) Z' v& h$ a" z6 y

% L7 ?& b6 _7 e0 j. JVEStudio2.2正式版下载:
) r* g7 D9 T7 [1 f+ n3 ihttp://www.vestudio.cn/data/VEStudio2.2正式版.exe
' `& a2 x$ }9 W, ]. msp2下载:0 O  L3 n( ?3 z: v4 B' m5 I
http://www.vestudio.cn/bbs/dispbbs.asp?boardid=2&Id=1544
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