扩散 平面光刻工艺 离子注入 0 Y, ?" R& \5 O : [/ o5 C; ~: B3 p+ Y+ B7 A图一.5台机器，6个步骤的微型FAB工艺流程示意图 - g ]( V4 G& x% s. h; Y0 c6 E, p5 m1 Y6 H( Y
微型FAB包括在3种不同的机器组，6个步骤的工艺流程和2种产品晶片和试验晶片。在每个机器组，步骤4，5，6处都是一个再进入入口。机器组包括扩散—C1（2个机器Ma和Mb），离子注入－C2（2个机器Mc和Md）和平面光刻技术－C3（一个机器Me）。" H X D; O9 t8 k* {# K
求大家用extendsim7仿真谢谢邮箱641395644@163.com
[复制链接]
发表于 2011-3-18 21:49:26
